MRP系列磁流体抛光机应用案例二：高精度修形（0.32 RMS→1/1002 RMS，熔石英）

初始状态：表面为传统抛光后亮面，面形误差0.32RMS左右，无明显瑕疵。

最终状态：表面粗糙度小于1nm，面形误差优于1/1002RMS，疵病等级20/10。

工艺过程：磁流变抛光。

加工时间：200mm口径光学元件，10~12小时在机加工时间。

典型案例：微晶材料，200mm圆形截面，二次曲面面形，初始面形精度0.3082 RMS最终面形精度0.0102 RMS，在机加工时间12小时。